產(chǎn)品簡(jiǎn)介
MODEL3750是一款高品質(zhì)的在線紅外多組份氣體分析儀，應(yīng)用沼氣、化工、冶金等領(lǐng)域
公司簡(jiǎn)介
北京方石亞盛科技發(fā)展有限公司是意大利ADEV自動(dòng)化系統(tǒng)設(shè)備有限公司的北京辦事
處，ADEV公司擁有40年的氣體分析儀的 設(shè)計(jì)和研發(fā)經(jīng)驗(yàn)，長(zhǎng)期專(zhuān)注于氣體分析系統(tǒng)解決
方案，是全球最專(zhuān)業(yè)的氣體分析儀和成套分析系統(tǒng)的研發(fā)團(tuán)隊(duì)之一
負(fù)責(zé)國(guó)內(nèi)產(chǎn)品的 銷(xiāo)售和技術(shù)支持。公司 主營(yíng)電化學(xué)氧氣分析儀 ，氧化鋯氧氣分析儀，熱
導(dǎo)分析儀 ，紅外氣體分析儀，氧碳勢(shì)分析儀 ，高溫露點(diǎn)儀等，公司的全線產(chǎn)品均有普通
型和防爆型系列，同時(shí)我們也是美國(guó)adv和英國(guó)SHAW肖氏露點(diǎn)儀的國(guó)內(nèi)產(chǎn)品供應(yīng)商。
我們的產(chǎn)品廣泛應(yīng)用在石化、冶金、電力、航天電子、煤化工、裂解氣等工藝。
展開(kāi)
產(chǎn)品說(shuō)明
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該分析儀采用先進(jìn)的紅外檢測(cè)方法，多組份同時(shí)測(cè)量(如CO、CO2、CH4等)紅外法具有測(cè)量準(zhǔn)確、抗干擾能力強(qiáng)、重復(fù)性好、使用壽命長(zhǎng)等特點(diǎn)，是工藝流程監(jiān)測(cè)、實(shí)驗(yàn)室分析的選擇。
儀器中心控制部分采用被廣泛用于各種高可靠的智能設(shè)備中目前非常流行單片機(jī)控制，其具有以下特點(diǎn)：19寸標(biāo)準(zhǔn)機(jī)箱、多組分測(cè)量、大屏幕顯示、中文界面操作、全自動(dòng)管理、簡(jiǎn)單按鍵操作、智能化取樣及存儲(chǔ)、自動(dòng)標(biāo)定、報(bào)警設(shè)定等。
技術(shù)參數(shù)
19英寸箱體式
-集成LCD液晶(320×240)屏幕顯示、五鍵鍵盤(pán)輸入
-支持單種或多種氣體分析
-模塊化設(shè)計(jì)，性能穩(wěn)定、可靠
特點(diǎn)
-儀器采用進(jìn)口高性能檢測(cè)器
-儀器采用大屏幕LCD顯示屏全中文操作菜單
-可聯(lián)接打印機(jī)，實(shí)現(xiàn)定時(shí)自動(dòng)打印，實(shí)時(shí)時(shí)鐘顯示
-具有定時(shí)自動(dòng)存儲(chǔ)功能、可隨時(shí)查看存儲(chǔ)數(shù)據(jù)
-可設(shè)置上、下限報(bào)警點(diǎn)、具有報(bào)警接點(diǎn)輸出
-可用標(biāo)準(zhǔn)氣在線校準(zhǔn)
-可輸出電流為4～20mA或RS485、CAN總線
-具有RS232通訊口，可連接計(jì)算機(jī)，實(shí)現(xiàn)實(shí)時(shí)數(shù)據(jù)傳輸，數(shù)據(jù)存儲(chǔ)、曲線趨勢(shì)圖、打印報(bào)表等功能
-可測(cè)量單種或多種氣體組合
主要技術(shù)數(shù)據(jù)
| 檢測(cè)氣體 |
量程 |
基本誤差 |
響應(yīng)時(shí)間 |
傳感器類(lèi)型 |
| 氧氣(O2) |
0-1%;0-5%;0-25%;0-100% vol(任意段) 常量 |
≤±2.5% |
<15s |
EC/順磁 |
| 0-10;0-100;0-1000ppm 微量 |
≤±2.5% |
<15s |
EC |
| 一氧化碳(CO) |
0-50ppm；0-200ppm |
≤±2% |
<25s |
EC或NDIR |
| 0-1000/5000ppm 0-10，100%vol(任意段) |
≤±2% |
<25s |
EC或NDIR |
| 二氧化碳(CO2) |
0-50ppm;0-200ppm;0-500ppm |
≤±2% |
<30s |
NDIR |
| 0-2000ppm;0-5000ppm;0-10000ppm;0-10%vol;0-20%vol;0-25%vol 0-50%vol;0-100%vol(任意段) |
≤±2% |
<30s |
NDIR |
| 甲烷(CH4) |
0-5% vol；0-100% vol(任意段) |
≤±2% |
<30s |
NDIR |
| 碳?xì)?HC) |
0 - 9999 ppm；0-100% vol(任意段) |
≤±2% |
<30s |
NDIR |
| 硫化氫(H2S) |
0-ppm |
≤±2.5% |
<30s |
EC |
| 氫氣(H2) |
0-100%(任意段)常量 |
≤±2.5% |
<15s |
TCD |
| 0-50 ppm ;500 ppm ;5000ppm微量 |
≤±2.5% |
<15s |
EC |
| 二氧化硫(SO2) |
0-1000 ppm；5000ppm；0-15%vol；0-100%VOL(任意段) |
≤±2% |
<30s |
EC或NDIR |
| 一氧化氮(NO) |
0-1000 ppm;2000ppm |
≤±2% |
<30s |
EC或NDIR |
| 二氧化氮(NO2) |
0-1000 ppm;2000ppm |
≤±2.5% |
<30s |
EC |
| 氮?dú)?N2) |
98-100%，95-100%，90-100%，80-100%，75-100%N2 |
±0.01%N2 |
<30s |
EC |
| 溴甲烷 |
0-100 ppm |
≤±2.5% |
<30s |
PID |
| 硫酰氟 |
0-100ppm |
≤±2.5% |
<30s |
NDIR |
| 氬氣 |
0-100%VOL(任意段) |
≤±2.5% |
<15s |
TCD |
| 氦氣 |
0-100%VOL(任意段) |
≤±2.5% |
<15s |
TCD |
| 氨氣 |
0-100 ppm;200ppm |
≤±2.5% |
<30s |
EC |
| SF6 |
0-1000ppm;0-100%VOL(任意段) |
≤±2.5% |
<30s |
TCD或NDIR |
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