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價(jià)格:電議
所在地:北京
型號(hào):SPECTRO ARCOS
更新時(shí)間:2020-12-22
瀏覽次數(shù):2502
公司地址:北京市海淀區(qū)清華東路25號(hào)六所大廈508室
王亞新(先生) 經(jīng)理
▲一維色散+32個(gè)CCD檢測(cè)器設(shè)計(jì),檢測(cè)器無(wú)需超低溫冷卻,無(wú)需氬氣吹掃保護(hù)
▲全波長(zhǎng)覆蓋,為130-770nm的波長(zhǎng)范圍,可以分析ppm級(jí)鹵素
▲密閉充氬循環(huán)光路系統(tǒng),檢測(cè)190nm以下譜線,無(wú)需氣體吹掃
▲輕松檢測(cè)單晶/多晶硅及金屬硅生產(chǎn)企業(yè)中P(磷)B(硼)等元素.有低檢出限,可彌補(bǔ)ICP-MS不足之處.
▲3秒實(shí)現(xiàn)真正全譜數(shù)據(jù)采集,分析速度快 .每小時(shí)可分析60個(gè)樣品
▲所有氣體流量采用質(zhì)量流量計(jì)計(jì)算機(jī)控制,矩管位置3維步進(jìn)馬達(dá)計(jì)算機(jī)控制自動(dòng)化程度高
技術(shù)參數(shù):
整體性能:可在30秒內(nèi)完成73個(gè)元素的全譜定量測(cè)試,分析速度:≥ 60個(gè)樣品/小時(shí)
SPECTRO ARCOS全譜等離子體光譜儀(ICP光譜儀)分光系統(tǒng)
光室恒溫:15℃,恒溫精度:±0.1℃
帕邢-龍格光學(xué)系統(tǒng),焦距:750mm
全息光柵:2×3600 刻線/mm,1×1800 刻線/mm
MgF2光學(xué)組件,光柵材質(zhì)為Zerodur
波長(zhǎng)范圍:130~770nm,一級(jí)全譜成像
入射狹縫15μm
SPECTRO ARCOS全譜等離子體光譜儀(ICP光譜儀)檢測(cè)器
32個(gè)線性檢測(cè)器:3648像素/CCD
分辨率(Pixel):3 pm(130nm~340nm);6 pm(340nm~770nm)
SPECTRO ARCOS全譜等離子體光譜儀(ICP光譜儀)熱穩(wěn)定光學(xué)系統(tǒng):
高速數(shù)據(jù)讀出電路
動(dòng)態(tài)范圍:10的8次方
短積分時(shí)間為:1 ms,可與HPLC/GC聯(lián)機(jī)使用
短測(cè)量時(shí)間為:2s
TCP/IP協(xié)議,支持?jǐn)?shù)據(jù)遠(yuǎn)程傳輸和再處理
SPECTRO ARCOS全譜等離子體光譜儀(ICP光譜儀)遠(yuǎn)紫外區(qū)光學(xué)系統(tǒng)UV-PLUS
的遠(yuǎn)紫外區(qū)光學(xué)系統(tǒng)UV-PLUS
氬循環(huán),無(wú)須吹掃
入射光路光學(xué)器件易于維護(hù)
自動(dòng)其它凈化系統(tǒng)
長(zhǎng)壽命凈化器
SPECTRO ARCOS全譜等離子體光譜儀(ICP光譜儀)激發(fā)光源
自激式,頻率27.12 MHz
輸出功率為0.7到1.7 kW
穩(wěn)定性<0.1%
“待機(jī)模式”可有效降低功率和氬氣的消耗
風(fēng)冷式冷卻裝置
全計(jì)算機(jī)控制
SPECTRO ARCOS全譜等離子體光譜儀(ICP光譜儀)尺寸和重量
1074 mm(高)*1560 mm(寬)*750 mm(深)
重量:250kg(約551 lbs)
SPECTRO ARCOS全譜等離子體光譜儀(ICP光譜儀)環(huán)境條件
溫度范圍:18~35℃(64~95℉)
相對(duì)濕度:< 80%
不能有腐蝕性氣體或大量的灰塵
SPECTRO ARCOS全譜等離子體光譜儀(ICP光譜儀)廢氣排放需求
水平式觀測(cè)模式:250 m3/小時(shí)(150 cft/min)
垂直式觀測(cè)模式:300 m3/小時(shí)(175 cft/min)
發(fā)生器:250 m3/小時(shí)(150 cft/min)
SPECTRO ARCOS全譜等離子體光譜儀(ICP光譜儀)氬氣
≥4.6(99.996%)
壓力:7.5 bar ( 109 psi )
SPECTRO ARCOS全譜等離子體光譜儀(ICP光譜儀)OPI冷卻裝置
進(jìn)口溫度:5-25 ℃(41-77 ℉)
流速:1.5-2.5 l/min (0.4-0.7 gal/min
水壓:1-5 bar (14.5-72.5 psi)
SPECTRO ARCOS全譜等離子體光譜儀(ICP光譜儀)電源要求
230 VAC±10%,50/60Hz
功率消耗:大約5 KVA
30-32A慢熔保險(xiǎn)